背面清洗设备

应用于背面清洗或者湿法刻蚀工艺

盛美的背面清洗设备可用于晶圆背面清洗或者湿法刻蚀工艺, 同时通过伯努利夹盘为晶圆背面提供氮气保护。 该设备可广泛应用于集成电路制造和晶圆级封装领域。

背面清洗设备

  

主要优势

由伯努利夹盘对晶圆背面进行全面保护

药液回收功能可降低成本

可集成氮气二流体清洗功能

可灵活应用于湿法刻蚀工艺,如硅蚀刻及薄膜蚀刻工艺

先进的喷嘴扫描系统

精密的湿法刻蚀均匀度控制

精密的化学药液供给

可灵活应用于多种衬底材料,包括重掺杂片、Bonding 片、超薄片等


特征规格

最多可配至8套清洗腔体

配备晶圆翻转单元

最多可配至5种药液进行清洗工艺或者湿法刻蚀工艺, RCA 药液, 氢氟酸,氢氟酸/硝酸混合液, 配方药液等

伯努利夹盘可对晶片背面全面保护

最多可回收2种化学药液